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    • CPC-Aplasma cleaner等離子清洗機
      CPC-Aplasma cleaner等離子清洗機

      plasma cleaner已應用于各種電子元件的制造,可以確信,沒有等離子清洗機及其清洗技術,就沒有今日這么發達的電子、資訊和通訊產業。此外,等離子清洗機及其清洗技術也應用在光學工業、機械與航天工業、高分子工業、污染防治工業和量測工業上,而且是產品提升的關鍵技術,比如說光學元件的鍍膜、延長模具或加工工具壽命的抗磨耗層,復合材料的中間層、織布或隱性鏡片的表面處理、微感測器的制造,超微機械的加工技術、人工關節、骨骼或心臟瓣膜的抗摩耗層等皆需等離子技術的進步,才能開發完成。

      時間:2023-06-29型號:CPC-A訪問量:7755
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    • SC1CIF-Spin Processor
      SC1CIF-Spin Processor

      CIF-Spin Processor轉速穩定、啟動迅速,旋涂均勻,操作簡單,結構緊湊實用,為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學,硅片、載玻片,晶片,基片,ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

      時間:2023-05-23型號:SC1訪問量:3754
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    • CIF-SEM掃描電鏡等離子清洗機
      CIF-SEM掃描電鏡等離子清洗機

      CIF 掃描電鏡等離子清洗機采用遠程、原位雙等離子清洗源設計,并可自動切換,一機多用。遠程等離子體清洗快速高效低轟擊損傷,同時可實現常規等離子清洗。主要用于SEM或FIB等電鏡腔體內碳氫化合物的清洗。

      時間:2023-09-13型號:CIF-SEM訪問量:4005
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    • CPC-G粉末等離子清洗機
      CPC-G粉末等離子清洗機

      等離子清洗機也叫等離子清潔機,或者等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術,利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態,并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。

      時間:2023-10-12型號:CPC-G訪問量:6158
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    • PH18CIF烤膠機
      PH18CIF烤膠機

      CIF烤膠機采用智能程序化控溫技術,控溫精準均勻,加熱快速高效,維修簡單方便,控溫范圍在室溫-360℃之間,控溫精度達到0.1℃。適用于各種控溫精度高,加熱均勻性要求高的實驗室。

      時間:2023-11-24型號:PH18訪問量:2318
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    • CPC-B-13.56等離子表面處理儀
      CPC-B-13.56等離子表面處理儀

      華儀行科技供應CIF等離子表面處理儀不僅外觀設計美觀、而且內在質量過硬,產品性能穩定可靠,主要核心部件全部采用。等離子清洗機在材料學,光學,電子學,醫藥學,環境學、生物學等科研領域得了廣泛的應用,主要用于材料表面清洗、活化、沉積、去膠、刻蝕、接枝聚合、疏水、親水、金屬還原、去除有機物、鍍膜前處理、器械消毒等。

      時間:2023-10-12型號:CPC-B-13.56訪問量:3332
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    • CIF Spin Coater勻膠機
      CIF Spin Coater勻膠機

      Spin Coater勻膠機進行滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心,滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應根據光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高和/或基片比較大,往往需要滴較多的膠,以保證在高速旋轉階段整個基片上都涂到膠。動態滴膠方式是在基片低速(通常在500轉/分左右)旋轉的同時進行滴膠,“動態”的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開,減少光刻膠的浪費,采用動態滴膠不需要很多光刻膠就能潤濕(鋪展覆蓋)整個基片表面。尤其是當光刻膠或基片本身潤濕性不好的情況下,動態滴膠尤其適用,不會產生針孔。

      時間:2023-10-12型號:CIF Spin Coater訪問量:3256
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    • SC1CIF勻膠旋涂儀
      SC1CIF勻膠旋涂儀

      勻膠旋涂儀的真空泵一定要選用無油的,壓力標定準確,因為任何的油污都可能堵塞真空管道,如果真空吸附力降低,會導致基片吸附不住而產生“飛片”的情況,還會讓滴膠液不慎進入真空管道系統造成堵塞。用過國產勻膠機的客戶常常會關心怎么清洗的問題,這一點許多勻膠機都做得不錯,他們有通過聯動機制,如果真空吸附力不夠的時候,不會開始旋轉。

      時間:2023-06-15型號:SC1訪問量:6717
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